Amtsjahr in der Patentanwaltsausbildung

Berlin: (hib/MWO) Das Präsenzerfordernis in München für Patentanwaltsauszubildende führt aus Sicht der Bundesregierung nicht zu ungleichen Zugangsvoraussetzungen. Das schreibt die Bundesregierung in ihrer Antwort (19/16677) auf eine Kleine Anfrage der FDP-Fraktion (19/16323). Die Abgeordneten wollten wissen, wie die Bundesregierung die Patentanwaltsausbildung einschätzt. Nach Ansicht der Fragesteller stellt das sogenannte Amtsjahr beim Deutschen Patent- und Markenamt und beim Bundespatentgericht in München nach Abschluss der Ausbildung eine ungerechtfertigte Belastung für einen Teil der Patentanwaltsauszubildenden dar.

Wie die Bundesregierung schreibt, dauert das Amtsjahr, das die Ausbildungsabschnitte zwei und drei der Ausbildung zur Patentanwältin oder zum Patentanwalt bezeichnet, nur noch acht Monate. In dieser Zeit könnten laut Neufassung der Patentanwaltsausbildungs- und -prüfungsverordnung 20 Tage Erholungsurlaub genommen werden. Die Bundesregierung halte die in dieser Zeit notwendige Präsenz der Patentanwaltskandidatinnen und -kandidaten in München mit deren familiären Belangen für vereinbar. Zudem erlaube es die Verordnung, während des Amtsjahrs Nebentätigkeiten auszuüben. Patentanwaltskandidatinnen und -kandidaten ohne hinreichendes Einkommen könnten ein Unterhaltsdarlehen in Anspruch nehmen. Eine Umstrukturierung des Amtsjahrs sei aus Sicht der Bundesregierung nicht angezeigt.